描述
APMON 即時監測落塵沉積測試儀 : 「監控粒子的動態變化」詳記錄粒子與大小。把製造環境中的粒子堆積風險，用數據化來管理
ISO-14644-17中正式發佈5um以上大顆粒管理規定
歐洲企業(BMW、BOSH、ASML、VW)等已經開始運用管理大型粒子堆積物的污染管理規範。
持續監測“落下/沉積顆粒”附著在無塵室廠房或機器及材料或地面等等的異物APMON – 感測器
ISO14644-17 : 2021-顆粒沉積率的應用
監控即時落塵產生：量化製造環境和產品直接沉積的風險
概述背景:
隨著每個行業對清潔製造環境的需求，顆粒污染仍然是許多公司面臨的永恆挑戰。
在顆粒物污染中，“顆粒物堆積”造成的污染, 無法單純從量測空氣潔淨度（ISO14644-1）和微觀分析/成分分析問題得到完整解決，為了降低這種污染風險，我們需要數字話管理來識別顆粒何時掉落和沈積。
關於產品概念
APMON-優勢-能執行大面積監測
APMON 以至少 5 分鐘的間隔測量，因人為或系統活動而沉積的大於 15 µm 的顆粒。
即時監控導致粉塵產生的“時間”和“數量”，並量化造成污染的各種生產過程的行為。
技術特點APMON-落下粒子數量對應時間關係
測量技術/相關標準：ISO14644-17 : 2021-顆粒沉積率的應用
測量範圍 ：15-1000µm
測量原理 ：
雷射激發光，通過傳感器上方的六道鏡面，並在每個測量間隔，計算累積顆粒的數量和大小，將數據隨時間紀錄和分析顆粒大小及數量累績。
測量範圍 ：15-1000µm
測量原理 ：雷射激發光，通過傳感器上方的六道鏡面，並在每個測量間隔，計算累積顆粒的數量和大小，將數據隨時間紀錄和分析顆粒大小及數量累績。
粒徑是根據通過雷射激發光束的強弱波形，來檢測粒子的形狀，通過傅里葉變換的方法將激發光圖案製成實像。
https://www.youtube.com/watch?v=g2rH1GR9DlE
顯示測量結果
只需 5 分鐘即可檢測到不適當的“行為”新的監測技術非常適合清潔環境中的污染風險評估。
APMON 即時監控粒子沉積增加的時間點，可以檢測人員、廠房機器，系統運作和清潔活動等發塵源的“不適當活動”，紀錄並量化塵埃產生量和粒度分佈。
APMON 即時監控粒子沉積增加的時間點，可以檢測人員、廠房機器，系統運作和清潔活動等發塵源的“不適當活動”，紀錄並量化塵埃產生量和粒度分佈。
APMON-數據傳輸示意圖
此過程在 ISO14644-17中， 已經明訂此標準化方式，可以通過研究和改進與該粒子事件相關的活動作為減少 5 μm 或更大的粒子的控制方法。
此過程在 ISO14644-17中， 已經明訂此標準化方式，可以通過研究和改進與該粒子事件相關的活動作為減少 5 μm 或更大的粒子的控制方法。APMON 可檢測到＞15 µm－1000µm 的顆粒，這些顆粒會以 50% 或更大的速度下落並沉積在物體表面。
分析評估下落顆粒的粒度分佈，努力提高生產線的清潔度，可以將沉積在APMON上的顆粒繪製成顆粒尺寸分佈圖。估計15～30μm是由人體皮膚碎片和纖維素碎片引起的，100μm以上是由衣服纖維引起的。
通過換氣率改善，雖然可以部分改善30μm以下顆粒數量，但為了達到目標的清潔度，
應優先通過對製造現場的“出入手續”和“活動限制”進行改善，減少發塵來源，這才是一條終結根本問題的最佳路徑。
如果檢測到大於 50 µm 的粗顆粒，就要“優化清潔”，清潔製造環境。
建立顆粒沉積率（Particle Deposition Rate, PDR)的有效數據，經過確定濃度（數量/面積）的相對關係，有效建立起管制濃度（Particle Deposition Rate Limit,PDRL)，
如果超過該允許值，則可以通過對相關的表面清潔，來確保無塵室的環境是一個可允許的範圍
APMON可以建立起在無塵室裡的“行為紀律”， 這是一種有效的風險評估過程。
